工厂转让一台线上用韩一1600磁控溅射镀膜机  PVC靶材电镀机

方法可用于制备多种材料,如金属、半导体、绝缘子等.它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点.磁控溅射发展至今,除了上述一般溅射方法的优点外,还实现了高速、低温、低损伤。以下是磁控溅射的六大应用.

各种功能薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能.例如,在低温下沉积氮化硅减反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率.

主要用途

是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的**设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。

主要组成

设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。

主要特点

生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。

磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。

根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。

采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。

如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。

调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。

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单位注册资金单位注册资金人民币 500 - 1000 万元。