产品规格: |
DS-2000/14K无掩模数字光刻机 |
产品数量: |
10000.00 台 |
包装说明: |
标准 |
价格说明: |
不限 |
查看人数: |
254 人 |
本页链接: |
https://info.b2b168.com/s168-199514957.html |
鑫有研电子科技有限公司
无掩膜光刻机(科研型)
型号 DS-2000/14K
1.技术特征 采用DMD作为数字掩模,像素1024×768
采用1倍缩小投影光刻物镜成像,一次曝光面积约1×0.75
采用创新技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接,
可适应100×100基片。
2.技术参数
光源:350W球形汞灯(曝光谱线: i线);
照明均匀性:±2%; 物镜倍率:1倍
曝光场面积:14×10 光刻分辨力:14μm
工件台运动范围:X:100、 Y:100;
工件台运动定位精度:±1.5μm;
调焦台运动灵敏度:1μm;
调焦台运动行程:6 转动台行程:±6°以上
基片尺寸外径: Ф15—Ф100,
厚度:0.1m.5m
3.外形尺寸:840m(长)×450m(宽) ×830m(高)
无掩模光刻机系统关键技术:曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等
欢迎来到鑫有研电子科技有限公司网站,我公司位于历史文化悠久,近代城市文化底蕴深厚,历史古迹众多,有“东方巴黎”美称的上海市。 具体地址是
上海杨浦上海市嘉定区博园路1333号北虹桥大厦8509室,负责人是陈立。
主要经营紫外光刻机,双面光刻机,纳米压印光刻机,无掩膜光刻机,数字曝光机,匀胶机,显影机,等离子清洗机。
单位注册资金单位注册资金人民币 1 亿元以上。