派瑞林真空敷膜设备工艺

Parylene采用了一种*特的化学气相沉积工艺（CVD）。CVD工艺较早应用于半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。

派瑞林沉积过程过程主要有三步：

1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。

2. 真空680℃条件下，将气态双份子裂解成活性单体。

3. 真空常温下，气态单体在基体上生长聚合。

派珂纳米科技（苏州）有限公司，拥有20年派瑞林真空镀膜设备的开发能力, 设备型号有HPC—300、HPC—960、VPC—508、VPC—960、VPC—1300等，设备并可根据客户产品进行设计定制，可以定制适用于学校研究所实验室的小型设备，占地面积小，腔体小，膜厚更均匀，且操作灵活简便；也可定制适用于较大生产型企业的大型设备，设备腔体较大，每炉所镀产品的数量较多，这样就能降低涂覆单价，为客户节省涂覆费用；对于设备治具，可根据不同的产品，量身定制夹具，以较大限度的利用腔体的有效空间，增加产能。